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    孔金属化在双电路板的制作方法
    2011年12月21日 点击: 编辑: voipinf
    在印制板]加工厂采用的是自动化的连续作业设备,设备成本昂贵,这在业余条件下是根本不可能做到的。我们在这里推出的是一种接近工厂正规生产工艺流程,但生产工艺相对简单,设备极其低廉,业余条件下比较容易完成操作的方法。郑州东明电子研究所为此专门设计生产了“东明DM—2120型孔金属化箱”,该箱体小巧,内置孔金属化所需要的全部化学药品、器皿、磷铜电极、电镀电源(5V 20A电流可调节),可以完成不大于200*200mm电路板的孔金属化全过程,具体操作流程如下:

    1、钻孔:完成热转印制版后,根据设计要求对焊盘钻孔,钻孔时孔应尽量对准焊盘中心。

    2、预浸:将预浸液倒进托盘中,放入电路板,预浸30秒到1分钟。其主要作用是确保孔壁被均匀浸润及电荷调整,同时防止电路板上的有害杂质带入KH-22- L活化液中,预浸的目的主要是保护价格昂贵的活化液。

    3、活化:将PCB板拿出后直接放入活化液中活化,活化液温度应控制在20℃--40℃之间,时间为5—7分钟。室温过低时应对活化液加热。活化时线路板应轻微晃动,以使药液均匀流过线路板,使电路板的每个部分都能为后续的化学镀铜提供充足有效的催化活性核心。

    4、加速:将电路板放入加速液,加速还原2—3分钟,加速液温度应控制在20℃--35℃,在加速液中也应轻微晃动板子。

    5、沉铜:将电路板放入沉铜液,沉铜前须向沉铜液中加入定量的甲醛,使沉铜液开始产生化学反应后,将电路板放入沉铜液,沉铜反映应进行10—15分钟。沉铜时应不停的晃动板子,使化学铜能均匀沉在线路板的每个地方。

    6、电镀:将电路板用稀硫酸去除氧化层后,带上负电极放入东明DM2120提供的电镀箱进行电镀。电镀前应将东明DM2120提供的电镀电源调至所需电流,电镀电流按每平方分米3A的电流计算。电镀时电镀箱内的电机会带动传动机构轻微晃动板子,基板(磷铜板)放在电镀槽两端的白色涤纶布袋中,电镀时基板接电镀电源的正极,印制板接电源负极。线路板应在镀铜液中间来回移动,距两侧基板的距离应控制在15cm以上。镀铜时间一般应控制在30分钟左右,如需加厚电镀铜层,可适当延长电镀时间。

    7、二次转印:电镀完成后,将打印好的PCB图顶层及底层的每个焊盘与相对应的通孔仔细对齐,然后用胶带固定下来。转印完成后揭掉转印纸,如有图形缺陷可用记号笔进行修补。

    8、腐蚀:腐蚀前用特制的T-1涂料将所有的金属化过孔涂盖严实,防止腐蚀时将过孔腐蚀掉。涂完后即可送入DM2110A型腐蚀机腐蚀。腐蚀完成后用T-2溶剂将涂盖在过孔上的T-1涂料洗掉。这样,一块完整的双面印制电路就制作成功了,其工艺质量完全可以满足实验要求。孔金属化过程中牵扯到许多电化学方面的专业知识,并且使用了较多的化学药
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